鎢燈絲掃描電鏡
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產(chǎn)品名稱:
鎢燈絲掃描電鏡
產(chǎn)品型號(hào):
SEM2000
產(chǎn)品展商:
REANOW/雷若科技
產(chǎn)品文檔:
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簡(jiǎn)單介紹
SEM2000是一款基礎(chǔ)款的多功能分析型鎢燈絲掃描電鏡。20?kV分辨率可以做到3.9?nm，支持升級(jí)30?kV電壓，可觀察亞微級(jí)尺度樣品的微觀結(jié)構(gòu)信息。擁有比臺(tái)式電鏡更大的移動(dòng)范圍，適用于快速篩選待測(cè)樣品，更多的擴(kuò)展接口，可搭載BSED、EDS等附件，使應(yīng)用領(lǐng)域更廣。
鎢燈絲掃描電鏡 的詳細(xì)介紹
SEM2000是一款基礎(chǔ)款的多功能分析型鎢燈絲掃描電鏡。20?kV分辨率可以做到3.9?nm，支持升級(jí)30?kV電壓，可觀察亞微級(jí)尺度樣品的微觀結(jié)構(gòu)信息。擁有比臺(tái)式電鏡更大的移動(dòng)范圍，適用于快速篩選待測(cè)樣品，更多的擴(kuò)展接口，可搭載BSED、EDS等附件，使應(yīng)用領(lǐng)域更廣。
鎢燈絲掃描電鏡
產(chǎn)品特點(diǎn)
簡(jiǎn)潔的操作界面
*軟件界面僅供參考
純中文的操作界面
功能設(shè)計(jì)簡(jiǎn)單易操作。符合國(guó)人使用習(xí)慣，即使是新手用戶，簡(jiǎn)單了解后也能快速上手。
完善的自動(dòng)化功能
自動(dòng)亮度對(duì)比度、自動(dòng)聚焦、自動(dòng)像散，均可一鍵調(diào)節(jié)，提高工作效率。
豐富的測(cè)量工具
長(zhǎng)度、面積、圓度、角度等測(cè)量功能強(qiáng)大的照片管理和預(yù)覽、編輯功能。
特色功能
光學(xué)導(dǎo)航
想看哪里點(diǎn)哪里，導(dǎo)航更輕松
標(biāo)配光學(xué)導(dǎo)航攝像頭，可拍攝高清樣品臺(tái)照片，快速定位樣品。
防撞設(shè)計(jì)
對(duì)新手更友好的防碰撞設(shè)計(jì)，*大限度保護(hù)敏感單元。
分析距離
*佳分析距離和成像距離二合一，輕松體驗(yàn)上等性能。
多種信息同時(shí)成像
SEM2000軟件支持一鍵切換SE和BSE的混合成像?？赏瑫r(shí)觀察到樣品的形貌信息和成分信息。
豐富的擴(kuò)展性
高靈敏度背散射探測(cè)器
· 多通道成像
探測(cè)器設(shè)計(jì)精巧，靈敏度高，采用4分割設(shè)計(jì)，無(wú)需傾斜樣品，可獲得不同方向的陰影像以及成分分布圖像。
· 二次電子成像和背散射電子成像對(duì)比
背散射電子成像模式下，荷電效應(yīng)明顯減弱，并且可以獲得樣品表面更多的成分信息。
能譜
金屬夾雜物能譜面掃分析結(jié)果。
電子背散射衍射
鎢燈絲電鏡束流大，高分辨EBSD的測(cè)試需求，能夠?qū)饘?、陶瓷、礦物等多晶材料進(jìn)行晶體取向標(biāo)定以及晶粒度大小等分析。 該圖為Ni金屬標(biāo)樣的EBSD反極圖，能夠識(shí)別晶粒大小和取向，判斷晶界和孿晶，對(duì)材料組織結(jié)構(gòu)進(jìn)行**判斷。
應(yīng)用案例
新米胚乳淀粉顆粒顯微結(jié)構(gòu)
加速電壓：10 kV / 放大倍率：×5000
鹽
加速電壓：1 kV / 放大倍率：×2000
纖維截面
加速電壓：7 kV / 放大倍率：×1000
高分子透鏡陣列
加速電壓：15 kV / 放大倍率：×200
載催化劑鎳網(wǎng)
加速電壓：20 kV / 放大倍率：×200
仲鎢酸銨
加速電壓：5 kV / 放大倍率：×1000
MnS夾雜
加速電壓：15 kV / 放大倍率：×500
金屬斷口
加速電壓：20 kV / 放大倍率：×200
負(fù)極碳包硅
加速電壓：10 kV / 放大倍率：×3000
干法拉伸薄膜
加速電壓：3 kV / 放大倍率：×5000
磷酸鐵鋰
加速電壓：15 kV / 放大倍率：×5000
鈷酸鋰
加速電壓：15 kV / 放大倍率：×5000
PCB板
加速電壓：10 kV / 放大倍率：×100
PCB板（車燈）
加速電壓：10 kV / 放大倍率：×100
銅箔生箔
加速電壓：10 kV / 放大倍率：×10000
芯片
加速電壓：15 kV / 放大倍率：×500
紅翅鶴頂粉蝶
加速電壓：3 kV / 放大倍率：×5000
密蒙花中藥顆粒
加速電壓：3 kV / 放大倍率：×2000
槲寄生中藥原粉
加速電壓：3 kV / 放大倍率：×2000
片球菌屬
加速電壓：15 kV / 放大倍率：×30000
產(chǎn)品參數(shù)
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電子光學(xué)系統(tǒng)
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電子槍類型
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預(yù)對(duì)中型發(fā)叉式鎢燈絲電子槍
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分辨率
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3.9 nm @ 20 kV（SE）
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4.5 nm @ 20 kV（BSE）
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放大倍率
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1 x～300,000 x
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加速電壓
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0.5 kV～20 kV
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成像系統(tǒng)
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探測(cè)器
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二次電子探測(cè)器（ETD）
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*背散射電子探測(cè)器、*能譜儀EDS等
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圖像保存格式
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TIFF、JPG、BMP、PNG
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真空系統(tǒng)
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高真空
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優(yōu)于5×10-4 Pa
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控制方式
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全自動(dòng)控制
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泵
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機(jī)械泵×1，分子泵×1
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樣品室
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攝像頭
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光學(xué)導(dǎo)航
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樣品臺(tái)配置
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兩軸自動(dòng)
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行程
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X: 100 mm
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Y: 100 mm
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軟件
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語(yǔ)言
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中文
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操作系統(tǒng)
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Windows
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導(dǎo)航
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光學(xué)導(dǎo)航、手勢(shì)快捷導(dǎo)航
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自動(dòng)功能
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自動(dòng)亮度對(duì)比度、自動(dòng)聚焦、自動(dòng)像散
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特色功能
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智能輔助消像散、大圖拼接（選配軟件）
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安裝要求
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房間
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長(zhǎng) ≥ 3000 mm，寬 ≥ 4000 mm，高 ≥ 2300 mm
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溫度
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20 ℃～25 ℃
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濕度
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≤ 50 %
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電氣參數(shù)
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電源AC 220 V(±10 %),50 Hz,2 kVA
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